中微半导体 Veeco专利侵权案 没你想的那么简单

    11月2日，美国法院同意了Veeco公司（美国维易科公司）针对SGL公司的一项初步禁令请求，禁止SGL公司给中国本土企业中微半导体（AMEC）生产的MOCVD生产设备提供石墨盘。

   MOCVD设备目前在全球只有两大供应商，Veeco和中微半导体，两家各占一半的市场份额，Veeco的禁令请求将使得中微半导体短时间内无法获得SGL的石墨盘，必然会影响MOCVD设备的生产，当然Veeco也无法在短时间内填补中微半导体的市场，甚至都影响到了下游LED芯片生产商的生产。

   SGL公司是中微半导体的晶圆承载器供应商。该禁令禁止SGL出售供采用了Veeco专利技术的无基座金属有机化学气相沉积系统(MOCVD)使用的晶圆承载器，包括专为AMEC MOCVD系统设计的晶圆承载器。

    这一裁决显示了SGL和中微半导体侵犯Veeco知识产权的明确性质。

   11月24日，中微半导体传来了好消息：国家知识产权局专利复审委于作出审查决定书，否决了维易科精密仪器国际贸易上海有限公司（Veeco上海）关于中微专利无效的申请，确认中微起诉Veeco上海专利侵权的涉案专利为有效专利。

  中微称，中微开发相关技术、并在一系列相关专利申请布局后数年，Veeco美国公司才随之应用相同技术解决方案。在中微申请该涉案专利之后，Veeco美国公司针对该关键技术也提交了相近的专利申请，并使用于其EPIK 700产品上，由此侵犯了中微的专利权。

    Veeco美国公司在美国纽约东区地方法院对中微的基片托盘供应商提起专利侵权诉讼，而法院法官在未能有机会全面了解专利无效证据、未对Veeco美国的专利有效性和基片托盘是否真正侵权作出明确判断的情况下，极其罕见地发出了禁止基片托盘供应商给中微提供托盘的临时禁运令。中微正在采取多项有效措施全力减少禁令的影响。

    重点要提的是， Veeco公司也在积极布局micro-LED。

   11月1日Veeco和ALLOS Semiconductors达成了一项战略举措，展示了200mm硅基氮化镓晶圆用于蓝/绿光micro-LED 的生产。Veeco和ALLOS合作将其专有外延技术转移到 Propel单晶圆MOCVD系统，从而在现有的硅生产线上实现生产micro-LED。

　　Micro-LED显示技术由<30x30平方微米的红、绿和蓝(RGB)无机LED组成，这些LED被转化为显示屏背板，以形成亚像素。Micro-LED 的制造要求优质、均匀的外延晶圆，以满足显示屏的产量和成本控制的要求。

　　“使用Propel反应腔的MOCVD技术，能够实现高产量的GaN外延，满足在200毫米硅生产线上生产micro-LED器件的所有要求，” ALLOS Semiconductor的首席执行官Burkhard Slischka 这样说。

　　“不到一个月时间我们就已经在Propel上对我们的技术进行了验证，并且获得了无裂纹、无回熔的晶圆，翘曲度低于30微米，晶体质量高，厚度均匀性优异，波长均匀性小于1纳米。”Veeco和ALLOS正计划着将该技术在micro-LED产业中推广。

　　“和竞争对手的MOCVD系统相比， Veeco的TurboDisc技术提供的制程窗口更大，因此Propel能提一流的均匀性同时还能获得优良的膜品质。将Veeco领先的MOCVD专业技术和 ALLOS的硅基氮化镓外延晶片技术相结合，使我们客户能够开发出低成本的micro-LED，以便于在新的市场中开拓新的应用。”Veeco高级副总裁兼MOCVD运营总经理Peo Hansson博士这样说。