山形大学：实现透明电极+阻隔膜一次成型卷对卷工艺

山形大学有机电子研发中心（Innovation Center for Organic Electronics；INOEL）与帝人、TOSOH、FEBACS等公司共同研发了一项可挠式有机电致发光（EL）装置用阻隔膜技术，可以用卷对卷（Roll to Roll）方式将氧化硅类（SiO2）的高阻隔性单层膜与铟锌氧化物（Indium Zinc Oxide；IZO）一起形成。以蚀刻胶进行的电极技工，相较于使用许多溶剂的光刻蚀法（Photolithography），环境负荷也较低。

在实证实验中，采用了帝人的聚2,6萘二甲酸乙二酯（Polyethylene Naphthalate；PEN）薄膜，氧化硅类阻隔膜是以电浆辅助化学气相沉积法（Plasma enhanced CVD；PECVD）形成，铟锌氧化物膜则以溅镀方式成膜。网板印刷时透过涂布刻蚀胶，将铟锌氧化物直接图案化，进而形成透明电极。

在水蒸气透过率（Water Vapor Transmission Rate）评估实验中，确认新阻隔膜达到6.3×10-6 g/m2/日的高阻隔性。此外，将膜厚720nm的薄膜，以40℃、湿度90%的测试条件测试616小时后，确认仍将维持其封装效果。

机EL素材或电极对水分、氧气的耐受性较差，而基材的阻气性能则与使用寿命有直接相关性。相较于玻璃，水蒸气等较容易穿透薄膜，因此有必要在薄膜上形成阻隔膜。但一般技术存在着使用批次处理的真空制程、多层膜工序较多等问题，而新技术以卷对卷制程就可以完成，将有望大幅提高生产的效率化。目前研究团队也持续进行有机EL材料技术的实证，预计在2022年达到实用化的目标。

责编：邓蕊玲