首尔大学联手三星等研发团队开发出无需蚀刻的Micro LED制程技术

文章转自：CINNO

首尔大学工大研发团队研发出一种无需蚀刻制程的Micro LED制作技术。7日，首尔大学材料工学Yoon Uijun教授团队研发出可利用100纳米厚度的蓝宝石基底的高效率Micro LED制造源泉技术。

根据韩媒Inews24报道，Micro LED是小于100微米自发光超小尺寸LED。LED尺寸够小时无需将LED作为背光使用，而是直接作为发光元器件使用，在亮度、应答速度、分辨率、能耗、寿命等各方面皆可超越LCD或OLED的限制。

根据市调机构Market&Market，到2025年时 Micro LED市场规模可达201.58亿美金。但截至目前仍未有可量产商用的技术正式出现。主要是未能解决随着LED尺寸变小而出现的诸多问题点。尤其传统的Micro LED使用的是在基板上制作LED结构后在根据需求大小进行蚀刻、剥离会导致元器件效率大幅下降。

Yoon Uijun教授团队寻找出将100纳米厚度的蓝宝石基板在基板上排列成Array的方法。这样，无需额外的蚀刻制程，可利用氮化半导体基板就可以制作出独立的Micro LED。此为利用氮化制程的独立成长LED源泉技术。

而且厚度较薄的蓝宝石基板，可利用机械力就可以进行粉碎，可轻松从基板进行分离。可以更简单的将LED转移到驱动电路基板之上，即节省时间、也节省了费用。

研发团队表示：本次的研发结果希望能有助于提前Micro LED的商用。

本次研发有首尔大学、三星综合生产技术院、韩国可续技术院、韩国光技术院参与，在三星未来技术中心、教育部BK21 Plus事业、韩国研发财团的支援下进行。

本次的研发结果刊登于纳米科学技术期刊Scientific Reports 5月6日线上版。