欢迎来到大屏幕显示业绩榜 [ 业绩榜首页 - 网站地图 ]

Micro-LED新突破!江风益院士团队大幅提升橙-红光LED发光性能

类别:行业新闻发表于:2020-11-24 10:09

摘要:InGaN薄膜因其宽带隙可调的优点,在可见光领域内拥有广阔的应用前景,用于micro-LED全彩显示是其中最有潜力的应用之一,未来的智能手机、手表、虚拟现实眼镜等小尺寸显示屏都将受益于micro-LED技术。

    文章转自:显示世界


    Photonics Research 2020年第11期 Editors’ Pick:


QQ截图20201124101644.png


    InGaN薄膜因其宽带隙可调的优点,在可见光领域内拥有广阔的应用前景,用于micro-LED全彩显示是其中最有潜力的应用之一,未来的智能手机、手表、虚拟现实眼镜等小尺寸显示屏都将受益于micro-LED技术。


    目前micro-LED技术正面临两大挑战,首先是大家熟知的实现巨量转移技术非常困难,另一个就是缺乏高效可靠的红光micro-LED芯片。目前的红光LED是由AlGaInP材料制成,在正常芯片尺寸下,其效率高达60%以上。然而,当芯片尺寸缩小到微米量级时,其效率会急剧降低到1%以下。此外,AlGaInP材料较差的力学性能给巨量转移增加了新的困难,因为巨量转移要求材料具有良好的机械强度,以避免在芯片抓取和放置过程中出现开裂。


    InGaN材料在具有较好机械稳定性和较短空穴扩散长度的同时,又与InGaN基绿光、蓝光micro-LED兼容,是红光micro-LED的较佳选择。然而,InGaN基红光量子阱存在严重的铟偏析问题,这将导致红光量子阱中的非辐射复合增加,从而引起效率降低。在过去20年的研究中,InGaN基红光LED功率转换效率不足2.5%。铟偏析问题严重阻碍了InGaN基红光LED的发展。因此,如何解决铟偏析问题是获得高效InGaN基红光LED的关键。


    近日,南昌大学的江风益院士课题组在Photonics Research  2020年第8卷第11期上展示了他们新研制的高光效InGaN基橙-红光LED结果。



QQ截图20201124101658.png


    此项工作基于硅衬底氮化镓技术,引入了铟镓氮红光量子阱与黄光量子阱交替生长方法,并结合V形坑技术,从而大幅缓解了红光量子阱中高In组分偏析问题。再依据V形p-n结和量子阱带隙工程大幅提升了红光量子阱中的辐射复合速率。


    使用该技术成功制备了一系列高效的InGaN基橙-红光LED。当发光波长分别为594、608和621 nm时,其功率转换效率分别为30.1% 、24.0%以及 16.8%,光效相较于以往报道的相同波段InGaN基LED结果整体提高了约十倍。


    研究人员认为,该项技术在未来还有较大的进步空间,同时该团队的实验结果也证明了InGaN材料在制作显示应用的红光像素芯片上将有巨大潜力和美好前景。

来源:显示世界

【免责声明】本站部分图文内容转载自互联网。您若发现有侵犯您著作权的,请及时告知,我们将在第一时间删除侵权作品,停止继续传播。

欢迎投稿

电话:13713985783
QQ:409490274
邮箱:409490274@qq.com
   
每天会将您订阅的信息发送到您订阅的邮箱!

行业资讯项目信息
案例欣赏

精彩案例推荐
更多>>
首页|案例|行业资讯|视频演示|实用工具|关于我们
本站部分图文内容转载自互联网。您若发现有侵犯您著作权的,请及时告知,我们将在第一时间删除侵权作品,停止继续传播。
业绩榜http://www.yejibang.com 备案许可证号:陕ICP备11000217号-8

陕公网安备 61019002000416号