60-70%！Picosun ALD提高Micro LED效率

   4月5日， 在台湾国立阳明交通大学(NYCU)的研究中，Picosun原子层沉积(ALD)在增强Micro LED的电光特性方面发挥了至关重要的作用。

   据悉，使用介电薄膜作为钝化材料是抑制悬空键以及提高 LED 输出功率和外部量子效率的常用技术。在NYCU进行的这项研究比较了不同尺寸的III-Nitride Micro LED有和没有ALD Al 2 O 3钝化。结果表明，当使用ALD Al 2 O 3钝化时，5 µm × 5 µm Micro LED的外部量子效率提高了70%，10 µm ×10 µm Micro LED的外部量子效率提高了60%。

   此外，为了实现全彩色显示，纽约大学开发了一种自动图案化量子点的喷墨打印技术。该方案可以显着提高彩色像素的精度，满足高分辨率要求。Picosun ALD钝化技术成功用于防止量子点的光氧化和降解。经过 500 小时的环境可靠性测试，色域保持在极好的水平。

   Micro LED技术一直是下一代显示器的颠覆性技术，越来越多的应用领域正在涌现，它具有长寿命、高功率效率和高亮度等优点。纽约大学郭教授表示，借助基于量子点的技术，Micro LED可用于诸如就像虚拟和混合现实一样，因为它们允许使用单色、蓝色、微型LED芯片，从而降低制造成本。我们的研究证明，ALD钝化在即将到来的纳米级器件中起着关键作用。

   “Picosun的ALD技术已在许多知名LED制造商中得到生产验证。ALD薄膜具有卓越的保形性和均匀性，即使在极薄的薄膜厚度下也能确保可靠、无针孔的封装，这是一个关键优势。此外，ALD工艺可以在中等温度下运行”，Picosun集团工业业务领域副总裁Juhana Kostamo解释道。