新突破！Porotech解锁Micro LED动态像素调整技术

   CINNO Research产业资讯，Porotech是一家长期致力于Micro-LED和氮化镓基半导体材料技术开发的先驱公司。据其官网介绍，该公司将于下周在加利福尼亚举行的Display Week活动期间，在其PoroGaN微显示平台上首次推出其动态像素调整技术——DynamicPixelTuning™。

   该技术的突破将为这一领域带来一种新的设计可能，那就是使用同一个晶圆上彼此性能接近的发光芯片制成一种全彩或者色彩可调型显示器。因为构成最终像素的每一颗发光芯片来自同一个晶圆，整个彩色显示器的颜色均匀性非常高。与此同时，这一设计还让整个产品的制作工序省去一系列复杂的传统工艺，进而极大提高产品的生产效率。

   据介绍，这项技术创新将进一步加速Micro-LED、Mini-LED和LED直显产品的商业化进度，从而为AR/MR/VR应用、智能可穿戴设备、智能显示器和大型直视显示器提供下一代高性能显示产品。

   Porotech是世界上第 一个解锁LED芯片(像素)动态颜色调整技术的公司，其PoroGaN平台可以让外延片上的每个独立的小尺寸LED都可以发射所有可见光谱范围内的颜色。

   在目前这个阶段，Porotech为了完成概念验证仅制作了一款颜色可动态调整的单色显示器，该样品在微米(µm) 和纳米(nm) 像素层面具有非常均匀的亮度和颜色。不过据预计，凭借其专有的PoroGaN平台和动态像素调整技术，该公司将在不久的将来制作出单晶圆全彩色RGB显示器。

   另外，PoroGaN平台还支持一种一步式晶圆到晶圆电气键合工艺，这可以消除可调型全彩色微型显示器制造的关键制造障碍，从而在提高产量的同时降低生产成本和上市时间。

   “我们彻底改变了GaN基半导体材料和结构，这推动了我们在单个像素层面上实现全光谱颜色显示的突破，” Porotech公司的首席执行官兼联合创始人Tongtong Zhu博士表示：“PoroGaN平台与波长无关这一光电特性还简化了电子和光电系统的集成设计。”

   由于主要制程和工艺都是在微米和纳米尺度上进行的，目前Micro-LED和Mini-LED显示器的制造仍然具有非常多瓶颈。不过，“凭借Porotech的多孔GaN技术及其可扩展架构，PoroGaN 平台已经实现了芯片拾取和巨量转移工艺的极大简化，”朱博士说。

   “在微型显示器的制程中，PoroGaNg平台通过直接将外延片与驱动背板进行晶圆级键合消除了传统方案中的巨量转移需求。这种工艺层面的简化可以提供更为高效和高良率的解决方案，它将助力全彩色Micro-LED和Mini-LED显示器成为下一代显示应用中最通用的部件，”朱博士补充说道。

   针对Micro-LED和Mini-LED两种芯片，PoroGaN平台可通过配置实现兼容，除此以外该平台还有晶圆上芯片（Chip on Wafer）、带上芯片（Chip on Tape）和可调材料平台等设置。

   Porotech将于5月10日至12日在2022年显示周I-Zone部分的R23展台上展示这项革命性技，地点是美国加利福尼亚州圣何塞市的圣何塞会议中心。

   关于Porotech公司

   Porotech公司是一家致力于氮化镓 (GaN)材料技术研发的前沿开发商，也是剑桥大学氮化镓剑桥中心的分拆公司。该公司专注于高性能和高光效型宽带隙化合物——GaN半导体的研发，一直希望通过尖端材料技术和解决方案的应用，真正通过GaN技术全部潜力的开发来彻底改变电子显示行业。