LG Display宣布开发出COE结构MicroOLED

9月16日消息，LG Display宣布开发出高效的OLEDoS（硅基上OLED）滤光片COE结构。如果保护有OLED免受湿气和氧气影响的薄膜封装为 2.5 微米 (um) 厚，则光不会泄漏并且可以防止颜色混合。LG Display 专注于开发硅基OLED，将 OLED 沉积在硅基板上以及各种微显示技术，旨在为 Apple 提供产品。

LG Display BS (Best OLEDoS) 任务研究员 Dongwook Choi 表示：LG Display 在首尔驿三洞 POSCO Tower 举行的“第 3 届显示器工人实践培训”上直接在硅基OLED薄膜封装上形成彩色滤光片。该研究员表示，9月15日，我们开发了一种（封装上的彩色滤光片）结构。

作为比较对象的Dongwook Choi所建议的下基板和上基板的接合结构是将涂有彩色滤光片的玻璃基板的上基板与沉积了OLED的玻璃基板的下载板贴合的方法。Dongwook Choi解释道，Sony的硅基OLED产品有一个单独的滤色器（在玻璃基板上），它们与硅基OLED 粘合在一起。他还解释表示，索尼的硅基OLED使用滤色器（在玻璃基板上）和透镜来增加亮度。

LG Display 的硅基OLED技术是直接在薄膜封装上形成彩色滤光片，保护 OLED 免受湿气和氧气的影响。为了在薄膜封装上形成彩色滤光片，还开发了可以在低于100度（℃）的低温下形成的彩色滤光片材料和工艺。这是因为，如果在形成彩色滤光片时温度高，则不能避免OLED元件的劣化。如果你想像Dongwook Choi建议的方法那样在上基板上涂上彩色滤光片作为比较目标，你可以在230度的高温下进行。

Choi 表示，LG Display 硅基OLED的薄膜封装厚度为 2.5um，这是一个考虑到腔体设备（循环光以提高光效率）的应用的数字。

Choi还表示，原子层沉积 (ALD) 应用于薄膜封装的第 一层。ALD是在原子层级别逐层堆叠薄膜的工艺，虽然沉积速度较慢，但可以进行精确的厚度控制。ALD可以确保薄膜封装的可靠性。彩色滤光片厚度为1.5um。

由 LG Display 开发的硅基OLED是一种在白色 (W)-OLED 上应用红色 (R) 绿色 (G) 蓝色 (B) 彩色滤光片的方法。从长远来看，有望推动使用精细金属掩模（FMM）的RGB型硅基OLED技术的发展。三星显示器的硅基OLED发展方向类似。

同时，在苹果预计于明年初推出的第 一款混合现实（MR）设备中，内部的硅基OLED将由索尼提供。LG Display 为本产品的外部提供通用 OLED。由 LG Display 开发的硅基OLED技术旨在为苹果的其他 MR 设备提供未来。

LG Display 宣布已开发出一种CoE（封装上的滤色器）结构，可直接在 OLEDoS 薄膜封装上形成滤色器。