北方华创“半导体工艺设备及清洗方法”专利获授权

类别：行业新闻发表于：2023-05-17 10:32

摘要：北京北方华创微电子装备有限公司“半导体工艺设备及清洗方法”获专利授权，授权公告日为5月16日，授权公告号为CN113857117B。

北京北方华创微电子装备有限公司“半导体工艺设备及清洗方法”获专利授权，授权公告日为5月16日，授权公告号为CN113857117B。

专利摘要显示，本发明公开一种半导体工艺设备及清洗方法，所述半导体工艺设备包括工艺槽、喷淋部和注液管；所述喷淋部（200）用于向所述工艺槽（100）内喷淋第一预设温度的清洗液，所述第一预设温度与所述工艺槽（100）的温度的温度差小于或等于第一预设阈值；所述注液管（300）与所述工艺槽（100）相连通，所述注液管（300）用于向所述工艺槽（100）内注入第二预设温度的清洗液，所述第二预设温度与所述工艺槽（100）的温度的温度差小于或等于第二预设阈值。

据悉，该方案能够解决工艺槽破裂的问题。

来源：集微网

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