中微投资！芯元基Micro LED印章巨量转移重大突破

类别：行业新闻发表于：2023-12-11 10:17

摘要：上海芯元基在其独有的化学剥离Micro LED的技术基础上，成功开发出了晶圆级印章巨量转移工艺，达到了转移芯片位置零偏差。

上海芯元基在其独有的化学剥离Micro LED的技术基础上，成功开发出了晶圆级印章巨量转移工艺，达到了转移芯片位置零偏差。

芯元基由行业专家郝茂盛博士于2014年创办，上海创徒、张江科投、中微半导体等先后进行了投资，并在上海临港建设了中试生产线。经过5年多的潜心研发，芯元基已经形成了以蓝宝石复合图形衬底技术（DPSS）、化学剥离技术和晶圆级批量转移技术等为核心的完整技术体系，这些技术是制造高端光电子器件的核心技术，是Micro LED 批量转移的最优方案。芯元基的主要技术在中国、美国、日本、中国台湾等均已获专利授权，打破了该领域核心技术的国外垄断，其技术水平位于全球前列。

来源：Wit Display

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