中微公司：2023上半年预计收入25.27亿元，同比增长28%

   中微公司发布2023半年报业绩预告，预计收入25.27亿元，同比增长28%；扣非归母净利润5-5.4亿元，同比增长13.5%-22.5%。公司刻蚀设备市占率不断提升，23Q2收入同环比均实现增长。

   23H1收入和业绩同比稳健增长，23Q2营收环比实现增长。23H1预计收入25.27亿元，同比增长28%；归母净利润9.8-10.3亿元，同比增长109.5%-120.2%；扣非归母净利润5-5.4亿元，同比增长13.5%-22.5%；23Q2收入预计13亿元，同比增长27.5%，环比增长6.6%；归母净利润7.05-7.55亿元，同比增长101%-115%，环比增长156%-174%；扣非归母净利润2.72-3.12亿元，同比增长7%-22.8%，环比增长19.4%-37%，非经常收益主要系23Q2出售部分拓荆股票带来的4.06亿元收益；单季扣非净利率20.9%，同比约下降2.5pcts，环比增长4pcts。

   23Q2刻蚀设备收入稳健增长，MOCVD设备收入同环比承压。从收入拆分来看，①刻蚀设备：23H1收入17.22亿元，同比增长32.5%，主要系市占率不断提高；23Q2收入9.08亿元，同比增长55.2%，环比增长11.5%；②MOCVD设备：23H1收入2.99亿元，同比增长24.1%；23Q2 收入1.32亿元，同比下降33.7%，环比下降21%；③备品备件及服务收入5.05亿元，同比增长17.1%。

   日本发布半导体设备出口管制法规，刻蚀设备国产化率有望持续加速。日本政府修正法案于5月23日公布，预计7月23日正式实施，对光刻、刻蚀、沉积、清洗、热处理、测试共六大类设备进行限制，对刻蚀和薄膜沉积设备限制较多，主要针对刻蚀深宽比、选择比进行限制，以及对金属沉积、介质薄膜的介电常数/反应温度/介质材料等进行限制；日本TEL等在刻蚀领域具备一定市场份额，根据中国海关，2022年中国大陆等离子刻蚀设备进口金额37.5亿美元，日本占比31%。因此，我们认为刻蚀设备国产化进程有望加速，公司有望在国内先进逻辑和存储产线获取可观市场份额。

   大马士革和极高深宽比工艺刻蚀机台验证顺利，持续向LPCVD、外延、检测等领域延伸。针对大马士革工艺，公司开发了可调节电极间距的刻蚀机，同时满足通孔和沟槽刻蚀的不同工艺要求；针对极高深宽比工艺，公司自主开发极高深宽比刻蚀机，使用400KHz取代2MHz作为偏压射频源，从而获得更高的离子入射能量和准直性，目前两款机台均验证顺利；在薄膜领域，公司于5月发布自研12英寸LPCVD设备，用于先进逻辑器件、DRAM和3DNAND中接触孔以及金属钨线等的填充，目前顺利导入客户端进行生产核准；在外延领域，公司正开发EPI外延设备，面向28nm以下逻辑、存储和功率器件，目前研发顺利，进入样机制造和调试阶段；在检测领域，上海睿励主营工艺检测设备，中微公司此前持股34.75%，为第 一大股东。2023年4月3日，大基金将持有的上海睿励6.76%的股权在上交所挂牌交易，中微于4月28日竞购成功，加强向检测设备的产业链延伸。